Reuters nói Trung Quốc "đã có máy quang khắc EUV", thực hư thế nào?

Đăng lúc 22:43 28.12.2025

Ngày 18/12/2025, Reuters đưa tin: “Tại một phòng thí nghiệm an ninh cao ở Thâm Quyến, các nhà khoa học Trung Quốc đã chế tạo được thứ mà Washington đã mất nhiều năm để ngăn chặn: Một bản mẫu máy quang khắc có khả năng sản xuất các chip bán dẫn tiên tiến, vốn là nguồn năng lượng cho trí tuệ nhân tạo, điện thoại thông minh và vũ khí đóng vai trò trung tâm trong ưu thế quân sự của phương Tây.”

Reuters viết tiếp: “Hoàn thành vào đầu năm 2025 và hiện đang được thử nghiệm, nguyên mẫu này chiếm gần hết diện tích một tầng nhà máy. Theo hai nguồn tin giấu tên, nó được chế tạo bởi một nhóm kỹ sư cũ từ tập đoàn bán dẫn khổng lồ ASML của Hà Lan, những người đã đảo ngược được thiết kế của các máy khắc quang cực tím (EUV) của ASML.”

sF5kjc768gySpL2e9YSSqA-970-80.jpg.webp

Thật ra câu chuyện đảo ngược thiết kế, kết hợp với rất nhiều chiêu trò liên quan tới bí mật kinh doanh của một tập đoàn rơi vào tay người Trung Quốc đã không còn gì lạ nữa. Gần nhất có hẳn một nhà nghiên cứu ở Samsung Semiconductor đã làm được một việc táo bạo, đó là chép nguyên văn mọi khía cạnh kỹ thuật và gia công của tiến trình sản xuất chip DRAM 10nm, đem từ Samsung về CXMT, một tập đoàn chỉ vừa mới được thành lập vài năm về trước.

Quay trở lại với bài viết của Reuters. Dễ nhận ra những câu chữ mang đậm tính cảm xúc trong những gì Reuters đưa tin, dễ khiến mọi người sợ hãi và có những cảm xúc cực đoan. Bằng chứng là họ viết: "Tháng 4 vừa qua, CEO của ASML, ông Christophe Fouquet cho biết rằng Trung Quốc sẽ cần "nhiều năm, rất nhiều năm" để phát triển công nghệ như vậy. Tuy nhiên, sự tồn tại của nguyên mẫu này, được Reuters lần đầu tiên đưa tin, cho thấy Trung Quốc có thể tiến gần hơn đến mục tiêu tự chủ về bán dẫn nhanh hơn dự đoán của các nhà phân tích."

Thứ mà không nhiều người để ý là vài chữ rất ngắn được thả giữa bài viết của Reuters: “…nhưng vẫn chưa sản xuất được chip hoàn chỉnh.”

[IMG]

Bài viết nói rất rõ rằng, máy scanner bước sóng cực tím EUV của Trung Quốc hiện chưa thể được sử dụng để sản xuất chip, nhưng chính phủ Trung Quốc được cho là muốn các nguyên mẫu chip đầu tiên xuất hiện vào năm 2028, tức là hai hoặc ba năm nữa. Tuy nhiên, mục tiêu thực tế hơn là năm 2030, tức là bốn hoặc năm năm nữa, một khoảng thời gian khá dài. Trong khi đó, chưa thể biết rõ ràng nhóm nghiên cứu Trung Quốc đang ở giai đoạn nào hiện nay.

sTYxT4FqfMMyrwcpqmHrQW-970-80.jpg.webp

Nguồn tin của Reuters không tiết lộ thành phần cụ thể nào của hệ thống quang học là điểm nghẽn chính, vì bài báo nhóm chúng khá chung chung. Đặc biệt, hoàn toàn có thể xảy ra trường hợp, người Trung Quốc đang gặp khó khăn trong việc sao chép hệ thống gương thu siêu chính xác được phủ nhiều lớp molypden-silicon (Mo/Si), quang học chiếu sáng (tạo hình và làm đồng nhất chùm tia bằng gương đa mặt), hay quang học chiếu (một loạt gương phi cầu để tạo ảnh giảm độ phóng đại 4X – 8X với sai số sóng dưới ngưỡng nanomet).

ASML thuê ngoài việc phát triển và sản xuất các linh kiện đặc biệt quan trọng này cho Carl Zeiss, cái tên vốn đã quá nổi tiếng của Đức. Nếu các nhà phát triển không thể sao chép được bộ thu năng lượng, thì phần còn lại của máy khó có thể được gọi là hệ thống in thạch bản EUV, vì về mặt kỹ thuật, thứ duy nhất họ có chỉ là một loại nguồn tia cực tím mà họ vẫn chưa biết cách sử dụng.

Tuy nhiên, ngay cả khi các nhà phát triển không thể sao chép được hệ thống quang học chiếu sáng hoặc hệ thống quang học chiếu (cho thấy bộ thu năng lượng có tồn tại), điều đó vẫn có nghĩa là người Trung Quốc vẫn chưa có trong tay một công cụ in thạch bản EUV, kể cả là hoạt động kém hiệu quả.

Thứ mà họ có, nói thẳng ra, chỉ là một đống những linh kiện và phụ tùng bên trong một hệ thống EUV hoàn chỉnh.

Ở một khía cạnh mang tính ngắn hạn, các quốc gia phương Tây, đặc biệt là Mỹ có lẽ chưa cần lo lắng vội, trái ngược hoàn toàn với cái tiêu đề đầy lo âu của bài viết từ Reuters. Cốt lõi của những khó khăn trong việc bắt chước và đảo ngược thiết kế máy của người Trung Quốc, nó nằm ở sự phức tạp phi thường của công nghệ in thạch bản EUV.

Nền tảng Twinscan NXE của ASML không được xây dựng từ một sơ đồ duy nhất có thể bị đánh cắp hoặc sao chép. Nó là sản phẩm của hàng thập kỷ nghiên cứu và phát triển hợp tác giữa hàng nghìn nhà cung cấp trên khắp các quốc gia và vùng lãnh thổ, từ Mỹ, Châu Âu cho tới Nhật Bản. Mỗi công ty đóng góp các thành phần độc quyền: quang học chính xác, hệ thống chân không, phần mềm điều khiển và công cụ chẩn đoán, cùng nhau tạo thành một trong những hệ sinh thái sản xuất phức tạp nhất hiện có.

zfqMmYxw7b5STvXpLmQ44X-970-80.jpg.webp

Lấy ví dụ, nguồn sáng để tạo ra tia cực tím EUV đến từ Cymer, một công ty có trụ sở đặt tại Mỹ, được ASML mua lại vào năm 2012. Hệ thống của Cymer dựa trên những giọt plasma được tạo ra bởi laser CO₂ tạo ra bức xạ 13,5 nanomet. Nó bao gồm bộ tạo giọt thiếc nóng chảy, bộ phận nhắm mục tiêu laser, bộ phận giảm thiểu mảnh vụn plasma, và cụm gương thu gom tia EUV.

Kế đến, hệ thống quang học của Carl Zeiss, phải phản xạ ánh sáng cực tím mà không bị tổn thất hấp thụ đáng kể. Cái này mình đã trình bày ở trên.

Ngay cả khi phần cứng có thể được sao chép về mặt vật lý, phần mềm độc quyền vẫn là thứ cần thiết để duy trì hoạt động của hệ thống cho sản xuất hàng loạt, ở mức độ tích hợp mà chưa có thực thể bên ngoài ASML nào đạt được.

Nguồn: Reuters, Techspot, Tom's Hardware